• Çok düşük bakım ve işletme maliyeti
• Çoklu kullanıcı sistemleri
• Yüksek çözünürlüklü üst ve alt mikroskoplar
• Otomatik hizalama
• Daha kısa işlem süresi için Yüksek Yoğunlukta Uv ışık kaynağı yapılandırması
• Otomatik bir sistem üzerinde Manuel yüzey doldurma kabiliyeti
• ince yada eğri wafer işleme
• Mask Alignment litografi işlemi için simülasyon yazılımı
• Mikro kontak baskı
• Gelişmiş işlem yetenekleri için Nano Align Paketi
•Nanoimprint litografi
• 300 mm den büyük wafer boyutlarında yüksek otomasyon seviyesi ve edge teknolojisi
